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有钱就是豪,台积电将拥有超过50台EUV光刻机

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2020年09月30日 11:09 相关案例: 本文标签: 贵州黔东墙体广告

     台湾媒体Digitimes报导,tsmc将扩张购置EUV 机器设备,2020年机器设备就将超出50 之数,可能达到55 台,十分丰厚。相较下,三星很有可能还不上一半,而intel更少,这将令tsmc不断保持制造优点。从EUV 光罩盒的购置量来看也适用那样的叫法。  
而从以前的信息来看,tsmc是不容置疑的EUV大顾客。   tsmc买下来销售市场上50%的EUV光刻技术   在上月举办的tsmc技术性讨论会上,最重要的管理中心信息内容之一是,该企业在半导体设备行业处在全球领先水平,尤其是在领跑的生产工艺行业。   为进一步传达信息,tsmc展现了一张ppt,强调了它与别的商品的相对位置:根据融合ASML的申明和自身的內部订货单,tsmc预测分析她们已安裝了全球约约50%的激话EUV设备。此外,该企业还有着约60%的EUV圆晶总计总产量。     大中型晶圆厂现阶段已经知道的公布EUV加工工艺包含TSMC的7 和N5,及其三星的7LPP(及下列一切商品),intel的EUV勤奋仅在2020年进到其自身的7nm产品组合策略。这种步骤以外的一切前沿科技都将再次扩张EUV的应用范畴。   与基本DUV设备对比,EUV设备的吞吐量率一般较低,每钟头约为120-175片晶圆,最新版能够做到275 wph,可是因为1层EUV一般能够替代3-4层DUV,因而吞吐量率高些。可是,针对这种代工企业而言,期盼拓展到好几个EUV设备以提升圆晶的物理学总数是一个急切的总体目标 。     唯一生产制造EUV设备的企业是ASML,而且该企业公布公布其每一年市场销售是多少台设备。详细信息以下:     一定要注意,到迄今为止,ASML仍未彻底做到其总体目标,可是早已充足贴近达到目标,这说明到今年第二季末,ASML仅交货了13台,但她们预估是35个系统软件。这种数据包含ASML已生产制造的全部不一样种类的Twinscan NXE设备,而升级的设备具备高些的货运量(有时候会翻修一些旧的设备)。截止到今年Q2,大家预测分析ASML早已送货的EUV机贴近71台,到今年年末,这一数据将有可能做到90台,殊不知ASML很有可能有高达库存积压49 EUV扫描仪曝光机订单信息,即便具备这种送货总体目标。     假如ASML早已交货了71台设备,那麼依据tsmc的数据,这代表着该企业大概有30-35台。一定要注意,TSMC的数据是对于“已安裝的EUV”设备的。大家获知,从获得零件到校正设备应用数最多必须6个月的時间。因而,现阶段,这种晶圆厂中有一些已经等候安裝EUV设备,或是在Intel的状况下,很有可能仅用以初期检测或风险性前实验。我们知道,GlobalFoundries有着两部初期的EUV设备,安裝了一台,可是当它决策不追求完美领跑的7nm时最后售卖了这两台设备,在其中中国公司购买了一台,但据大家孰知,因为英国释放的限定,它沒有安裝。。   伴随着tsmc为其N5生产制造提升其Fab 18的生产能力,并提升 其EUV处理速度,看一下tsmc是不是受限于其所有着的设备总数是不是受限制将很趣味。在某一情况下,intel在布署7纳米技术加工工艺时也会想选购一个总数(我已经见到intel早已最少有10台设备,但我没法确定),因此 很有可能会有一个谁先得到订单信息的争执。   可是能够毫无疑问的是,ASML正处在正中间部位,垄断性着一切。   ASML产品研发下一代EUV光刻技术:屏幕分辨率提高70% 靠近1nm極限   如前文常说,在EUV光刻技术层面,西班牙ASML企业垄断性了现阶段的EUV光刻技术,上年交货26台,造就了新记录。而据今年初的报导,ASML企业已经产品研发新一代EUV光刻技术,预估在2023年刚开始交货。依据ASML以前的汇报,上年她们交货了26台EUV光刻技术,预估今年交货35台EUV光刻技术,二零二一年则会做到45台到50台的交货量,是今年的二倍上下。     现阶段ASML交货的光刻技术主要是NXE:3400B及改进版的NXE:3400C,二者基础构造同样,但NXE:3400C选用模块化,维护保养更为方便快捷,均值检修時间将从两天减少到8-10钟头,适用7nm、5nm。   除此之外,NXE:3400C的生产能力也从以前的125WPH(每钟头解决圆晶数)提高来到175WPH。   无论NXE:3400B還是NXE:3400C,现阶段的EUV光刻技术還是第一代,主要特点是物镜系统软件的NA(数值孔径)为0.33。   ASML近期疏漏她们仍在产品研发新一代EUV光刻技术EXE:5000系列产品,NA指标值做到了0.55,关键合作方是卡尔蔡司、IMEC丹麦微电子技术管理中心。   与以前的光刻技术对比,新一代光刻技术代表着屏幕分辨率提高了70%上下,能够进一步提高光刻技术的精密度,终究ASML以前的总体目标是看准了2nm乃至極限的1nm加工工艺的。   但是新一代EUV光刻技术还有点儿早,最少到2023年才可以交货,规模性交货要到2024年乃至2030年,到时候tsmc、三星等企业的确要考虑到3nm下列的制造加工工艺了。

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